氢氟酸腐蚀二氧化硅反应方程式

氢氟酸对硅的化合物有强腐蚀性。应在密闭的塑料瓶内保存。氢氟酸用氟气（F₂）溶于水而得。用于雕刻玻璃、清洗铸件上的残砂、控制发酵、电抛光和清洗腐蚀半导体硅片（与HNO3的混酸）。

图（1）高纯度二氧化硅

因为氢原子和氟原子间结合的能力相对较强，使得氢氟酸在水中不能完全电离。氢氟酸能够溶解很多其他酸都不能溶解的玻璃（二氧化硅），生成气态的四氟化硅 反应方程式如下：

SiO₂(s) + 4 HF(aq) → SiF4↑ + 2 H₂O(l)

正因如此，它必须储存在塑料（理论上讲，放在聚四氟乙烯做成的容器中会更好）、蜡质制或铅制的容器中。氢氟酸没有还原性。如果要长期储存，不仅需要一个密封容器，而且容器中应尽可能将空气排尽。